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真空镀膜加工的种类

2021-08-24

真空镀膜加工的种类

在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但-般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。

真空镀膜

真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。具真空镀膜

蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。

蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。pvd镀膜

膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量), 并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到大片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引|起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1 ~ 0.2电子伏。

蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、 Cu、Cr、 Au、Ni等材料。②高频感应加热源:高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1]) 的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。


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