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PVD镀膜靶材是什么?

2021-12-18

什么是PVD镀膜靶材?

物理气相堆积(PVD)是一种薄膜制备技能,可在真空条件下将靶材的外表物理汽化为气态原子,分子或部分离子化为离子。然后,经过低压气体(或等离子体)将具有特定功能的膜堆积在基板的外表上。物理气相堆积的主要方法包含真空蒸发,溅射堆积,电弧等离子镀,离子镀等。PVD膜堆积速度快,附着力强,衍射性好,使用规模广。

PVD镀膜靶材的基本原理

物理气相堆积技能的基本原理能够分为三个处理过程:

(1)镀层材料的气化,即镀层材料蒸发,不相似溅射。

(2)电镀原子,分子或离子的搬迁:原子,分子或离子磕碰后产生各种反响。

(3)电镀原子,分子或离子堆积在基板上。


pvd镀膜


PVD镀膜靶材的使用

物理气相堆积技能是简单的,环境友好的,无污染,可耗费少,均匀,细密,并在强结合到基片。PVD技能被广泛用于门窗五金,灯具,珠宝,工艺品和其他装饰产品的加工。PVD现在在硬件领域非常流行,许多的硬件制作商已经开始开发PVD产品并进行批量生产。

PVD镀膜的色彩

PVD能够在不锈钢,铜,锌合金和其他金属上涂覆金,黄铜,玫瑰金,银白色,黑色,烟熏,铜,棕色,紫色,蓝色,勃艮第,青铜和其他色彩。与纯金或其他纯金属比较,有很多挑选,价格也能够接受。

PVD与CVD:有什么区别?

物理气相堆积(PVD)是一种广泛使用的薄膜制作技能。提到这个短语,许多人将其与化学气相堆积(CVD)进行比较。尽管这两个短语在字面上仅相差一个字,但它们之间的差异实际上是很大的。

物理气相堆积使用物理方法,即物质的三种状况(气态,固态,液态)的转化,因此在制作过程中不会产生新的物质;化学气相堆积涉及化学反响,包含旧材料的耗费和新物质的生产。能够看出,物理气相堆积简直没有污染,因此在当前的“环境友好”社会中,物理气相堆积越来越受到人们的青睐。

PVD镀膜靶材的优势

1、耐久性好与其他涂层(例如电镀)比较,PVD涂层有时更硬且更耐腐蚀。

2、广泛的使用简直所有类型的无机涂料和某些有机涂料都能够使用多种外表处理剂,用于多种类型的基材和外表。

3、环保因为PVD涂层工艺是在真空环境中进行的,因此与其他传统涂层技能(例如电镀和喷漆)比较,它对环境更加友好。

4、便利的清洁:您能够节省(减少)清洁和抛光一般铜(金)产品的时间和成本,而且用软布或玻璃清洁剂足以清洁PVD膜。

5、高质量和多种挑选:PVD镀膜具有多种色彩,外表细腻润滑,具有金属光泽,永不褪色。常见的色彩是金黄色(TiN),亮银(CrN),紫色(TiAlN)等。


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