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溅射不锈钢真空镀膜的流程介绍

2019-09-11

磁控不锈钢真空镀膜与1870年就开始使用了,1930年因为提高了沉积速率而用被广泛应用在工业生产上面。表现形式为采用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上成膜。

磁控不锈钢真空镀膜与蒸发镀膜不同点在于膜材熔点的限制,溅射化合物膜可用反应溅射法,即将反应气体(O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物。绝缘膜可采用高频溅射法,等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。

    磁控不锈钢真空镀膜放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,镀膜与靶表面原子碰撞,受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。

东莞鑫淼真空科技有限公司是一家真空镀膜的专业生产企业,公司旗下共2家真空镀膜厂,鑫淼科技创立于2018年3月,为结合市场高品质需求,提供更完美的服务;新厂全方位打造千级无尘车间,公司地址:东莞市长安镇乌沙社区海滨路81号4楼, 占地面积2300平方米,本公司属于加工型企业,经营包括产品表面的自动喷涂、丝 印、镭射雕刻、UV真空镀膜,在国内同行业中处于领先地位。 

本公司设备设施齐全,可根据客户的不同要求,全方位为客户服务。



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