是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

丝印适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.工艺流程作：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.真空电镀工艺，根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，真空塑料电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition）和磁控溅射镀膜法（Sputtering）两种工艺。丝印的一般做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．

PVD真空挂镀是通过靶材的分子分离附着在产品表面，形成产品薄膜。在过程中需要把产品一件件挂在设定好的挂具上进入炉内电镀加工，在这个过程中需要认真严谨，稍有差错都会影响膜层品质。PVD真空挂镀要用导电的线环绕物件一端，使需要进行加工的物件挂在挂具上，线的粗细和铜线环绕需要专业人士来进行，挂得不好容易有挂具影子出现在膜层上面。所以为了让产品避免这类的问题发生，装饰镀膜层在电镀前都会根据产品进行挂具调整以及二次检查。

属于真空电镀里面的磁控溅射镀工艺，一般PVD膜层都是可以直接镀制在不锈钢或者硬质的合金上面，而对于一些锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，再进行PVD镀膜。的原理主要在真空条件下，利用气体放电使靶材蒸发并将蒸发物质或其反应产污沉积在工件上面，所采用的为真金靶材，因此镀制的膜层为k金膜层。这种工艺要求镀制材料为不锈钢。通过PVD真金镀膜，可使电镀产品相对于普通膜层保色更持久，能保持1-3年不褪色。

加工厂制膜镀层属真金电镀，这种贵金属镀层虽然价格稍贵，但因其镀层稳定性高，色泽均匀，抗腐蚀性强，膜层与产品结合力牢固，环保不伤肤。所以客户群体集中在首饰，高档五金件，电子数码行业等居多。1. 加强来料检查，对来料产品孔洞，砂眼，麻点，刮花，缺损及抛光效果严格把关，强化前处理，去处产品表面的油污。2. 严格把关加工流程操作，从产品挂架清洗到产品入炉电镀前，每道工序必须有QC品检OK方可执行下道工序。