厂家对于产品的要求取决于工艺，一般分为磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，磁控溅射镀适用于金属产品，蒸发镀适用于塑胶产品，光学离子镀适用于玻璃产品。真空电镀厂家主要使用的是磁控溅射镀膜，以电镀不锈钢产品配件为主。由于产品电镀需要放进高温炉内，因此对于产品的大小也有所限制，大物件无法电镀，只适合小件电镀。比如首饰、电子配件、数码配件、五金配件等等。不耐高温的材质不能直接电镀，需要进行镀铬或镍作为电镀底层。

主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

电子配件被广泛应用在各种的智能产品上面，为了提高产品的使用寿命，智能产品生产厂家往往会进行电子配件，通过膜层的保护，使产品拥有更加好的耐磨性以及耐腐蚀性，提升产品整体品质。电子配件的优点在于镀制的膜层坚固稳定，色泽均匀有质感，但同时也有很多限制。比如只适用于小件的电子配件产品，而且对于材质也有相当严格的要求。由于炉内是高温物理沉积作用的，铜、铝、合金等材质容易氧化，所以只能电镀硬度高、耐高温的不锈钢材质。

PVD真空挂镀是通过靶材的分子分离附着在产品表面，形成产品薄膜。在磁控镀膜过程中需要把产品一件件挂在设定好的挂具上进入炉内电镀加工，在这个过程中需要认真严谨，稍有差错都会影响膜层品质。PVD真空挂镀要用导电的线环绕物件一端，使需要进行磁控镀膜加工的物件挂在挂具上，线的粗细和铜线环绕需要专业人士来进行，挂得不好容易有挂具影子出现在膜层上面。所以为了让产品避免这类的问题发生，装饰镀膜层在电镀前都会根据产品进行挂具调整以及二次检查。

加工可以应用的地方有很多，包括航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等范畴都有广泛应用，炉内与炉外电镀不太一样。对于不锈钢、铜、铁、锌合金等，适用不同工艺，原料和大小都有要求，PVD加工属于炉内电镀，只要是不锈钢的小件产品都能电镀，但不锈钢材质以外的产品则需要炉外电镀加工。PVD镀膜加工常常使用在首饰、眼镜架、数码配件、电子配件、链子、门牌上，严格控制电镀时间以及质量，膜层硬度高，可以延长产品保色时间长，欢迎咨询。