主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。

1、半透膜是在喷漆流水线及真空炉里镀膜处理，而水电镀是在水溶液里进行处理，由于是喷漆，故真空镀膜不宜加工复杂形状产品，而水电镀不受形状限制；2、处理工艺，比如塑料胶真空镀膜简单归纳：基本表面除油除尘除静电－喷UV底漆－UV固化－半透膜（镀膜）－除尘－喷面底（可加入色精进行调色）－固化－成品；真空镀膜受工艺的限制，不宜加工面积太大的产品，因为工艺过程不好控制，不良率高。3、水电镀可在全自动化生产中完成，真空电镀中间镀膜工序有转运的过程；

技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

 PVDK金色膜层粘附性好，附着牢固等特点，美观新潮收到人们追捧。使用真金靶材，也就是常说的真金电镀。这种贵金属膜层价格比较昂贵，多应用在首饰，电子数码，钟表手表等行业。PVD真空电镀膜层稳定性高，色泽耀眼均匀的同时，并具有更好的抗腐蚀性能，能够为产品带来了更好的外观效果。电镀工艺分为物理性质和化学性质的电镀工艺，化学电镀会对环境造成一定的污染，甚至会产生对人体的有害物质。而PVD真空电镀加工是物理电镀全程没废弃液排放无污染