磁控镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，磁控镀膜在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

正式颁布实施的《电镀污染物排放标准》(以下称新标准)对电镀企业生产提出了更严苛的环保要求。加工过程中大量强酸、强碱、重金属溶液，混杂铬酐、镉、氰化物等有毒有害化学品，在加工生产中排放废水、废气和废渣。在行业发展过程中，有很多小型的传统电镀行业五金电镀加工生产过程中由于这些企业多采取手工结合操作，自动化程度不高，不适合连续作业，对后续的废料处理也不到位，导致了产生很多对环境有害的废水废料。

的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

属于真空电镀里面的磁控溅射镀工艺，一般PVD膜层都是可以直接镀制在不锈钢或者硬质的合金上面，而对于一些锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，再进行PVD镀膜。的原理主要在真空条件下，利用气体放电使靶材蒸发并将蒸发物质或其反应产污沉积在工件上面，所采用的为真金靶材，因此镀制的膜层为k金膜层。这种工艺要求镀制材料为不锈钢。通过PVD真金镀膜，可使电镀产品相对于普通膜层保色更持久，能保持1-3年不褪色。

加工是物件外表优化处理的一项新发展。镀制的方法也有很多种，当高温蒸腾源通电加热后，促进待镀材料—蒸腾料熔化蒸腾。而蒸腾发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，然后附着于工件外表上堆积成膜。 接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，物料进入辉光放电区并被电离。加工中带正电荷的蒸发料离子，阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时，也会逐步堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。