电镀加工技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有电镀加工与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。

主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

电子配件被广泛应用在各种的智能产品上面，为了提高产品的使用寿命，智能产品生产厂家往往会进行电子配件，通过膜层的保护，使产品拥有更加好的耐磨性以及耐腐蚀性，提升产品整体品质。电子配件的优点在于镀制的膜层坚固稳定，色泽均匀有质感，但同时也有很多限制。比如只适用于小件的电子配件产品，而且对于材质也有相当严格的要求。由于炉内是高温物理沉积作用的，铜、铝、合金等材质容易氧化，所以只能电镀硬度高、耐高温的不锈钢材质。