属于真空电镀里面的磁控溅射镀工艺，一般PVD膜层都是可以直接镀制在不锈钢或者硬质的合金上面，而对于一些锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，再进行PVD镀膜。的原理主要在真空条件下，利用气体放电使靶材蒸发并将蒸发物质或其反应产污沉积在工件上面，所采用的为真金靶材，因此镀制的膜层为k金膜层。这种工艺要求镀制材料为不锈钢。通过PVD真金镀膜，可使电镀产品相对于普通膜层保色更持久，能保持1-3年不褪色。

磁控镀膜技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有磁控镀膜与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

PVD真空挂镀是通过靶材的分子分离附着在产品表面，形成产品薄膜。在过程中需要把产品一件件挂在设定好的挂具上进入炉内电镀加工，在这个过程中需要认真严谨，稍有差错都会影响膜层品质。PVD真空挂镀要用导电的线环绕物件一端，使需要进行加工的物件挂在挂具上，线的粗细和铜线环绕需要专业人士来进行，挂得不好容易有挂具影子出现在膜层上面。所以为了让产品避免这类的问题发生，装饰镀膜层在电镀前都会根据产品进行挂具调整以及二次检查。

的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

改善对策：㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。㈡ 加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，的真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）

正式颁布实施的《电镀污染物排放标准》(以下称新标准)对电镀企业生产提出了更严苛的环保要求。加工过程中大量强酸、强碱、重金属溶液，混杂铬酐、镉、氰化物等有毒有害化学品，在加工生产中排放废水、废气和废渣。在行业发展过程中，有很多小型的传统电镀行业五金电镀加工生产过程中由于这些企业多采取手工结合操作，自动化程度不高，不适合连续作业，对后续的废料处理也不到位，导致了产生很多对环境有害的废水废料。