主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

1、真空镀膜设备是在喷漆流水线及真空炉里镀膜处理，而水电镀是在水溶液里进行处理，由于是喷漆，故真空镀膜不宜加工复杂形状产品，而水电镀不受形状限制；2、处理工艺，比如塑料胶真空镀膜简单归纳：基本表面除油除尘除静电－喷UV底漆－UV固化－真空镀膜设备（镀膜）－除尘－喷面底（可加入色精进行调色）－固化－成品；真空镀膜受工艺的限制，不宜加工面积太大的产品，因为工艺过程不好控制，不良率高。3、水电镀可在全自动化生产中完成，真空电镀中间镀膜工序有转运的过程；

加工技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。加工生产线适用于贵金属电镀，如镀镍、镀银、镀金等，包含整套技术的电镀槽、水槽以及生产线周边的电镀设备（包含整流电源、高精度耐酸碱电镀过滤机、地道烘干炉、燃油加热炉、工业纯水机、冷冻机以及废气处理抽风系统）。而手动真空镀膜加工生产线设计规划灵敏，占地面积较小，可一起具有2至3个技术流程，能满意多种零件的电镀技术。

属于真空电镀里面的磁控溅射镀工艺，一般PVD膜层都是可以直接镀制在不锈钢或者硬质的合金上面，而对于一些锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，再进行PVD镀膜。的原理主要在真空条件下，利用气体放电使靶材蒸发并将蒸发物质或其反应产污沉积在工件上面，所采用的为真金靶材，因此镀制的膜层为k金膜层。这种工艺要求镀制材料为不锈钢。通过PVD真金镀膜，可使电镀产品相对于普通膜层保色更持久，能保持1-3年不褪色。