电镀技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。电镀技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.工艺流程作：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.真空电镀工艺，根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，真空塑料电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition）和磁控溅射镀膜法（Sputtering）两种工艺。的一般做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．

是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

涵盖了磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，水电镀等。至于不锈钢配件选用比较多的工艺为磁控溅射镀膜技术，也就是我们平常经常聊到的真空电镀。  作为一种十分有效的电镀工艺，磁控溅射镀膜已经被普遍和成功地应用于不锈钢材质表面处理。真空电镀厂家对于不锈钢配件镀膜也是相当的严格，为了使产品质量更好，在进行表面处理之前，会详细与客户沟通，了解产品的大小尺寸以及镀膜效果，从而根据产品调整加工处理过程，有效提高结合力等各性能。

PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。