主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

生活中应用加工的范围越来越广泛，既能在各种金属材料表面镀覆所需的金属层，也能通过一些特殊处理，使金属沉积于非金属材料的表面上。一般都是镀膜加工的零件为阴极，让它与直流电源的负极相连，然后将金属阳极与直流电源的正极相连。然后需要将阴极与阳极都浸入镀液中，镀液中含有被镀金属的盐类，并添加一些其他物质。一旦直流电源与镀槽相接通，那么在加工过程的电流会通过镀液，然后调节镀膜变阻器的阻值，控制镀液到适当的温度，真空镀膜加工就会正常进行。

技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

 PVDK金色膜层粘附性好，附着牢固等特点，美观新潮收到人们追捧。使用真金靶材，也就是常说的真金电镀。这种贵金属膜层价格比较昂贵，多应用在首饰，电子数码，钟表手表等行业。PVD真空电镀膜层稳定性高，色泽耀眼均匀的同时，并具有更好的抗腐蚀性能，能够为产品带来了更好的外观效果。电镀工艺分为物理性质和化学性质的电镀工艺，化学电镀会对环境造成一定的污染，甚至会产生对人体的有害物质。而PVD真空电镀加工是物理电镀全程没废弃液排放无污染

K金色可以通过真空电镀与水电镀来实现，因人们对于K金膜层的质量越来越高，大部分的商家都会选择工艺来镀制K金膜层或者用厚金电镀工艺，实现产品的质量提升。通过真空电镀工艺进行五金镀膜K金色还有另外优点。通过物理作用而形成的K金膜层，加工过程中并不会有化学物质的排放，环保节能，利于环境的循环发展，符合现代价值观。也因为如此而不会对人体皮肤造成损害，大多数用于钟表，首饰，配饰，箱包等五金件上。

喷涂是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为喷涂。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。