涵盖了磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，水电镀等。至于不锈钢配件选用比较多的工艺为磁控溅射镀膜技术，也就是我们平常经常聊到的真空电镀。  作为一种十分有效的电镀工艺，磁控溅射镀膜已经被普遍和成功地应用于不锈钢材质表面处理。真空电镀厂家对于不锈钢配件镀膜也是相当的严格，为了使产品质量更好，在进行表面处理之前，会详细与客户沟通，了解产品的大小尺寸以及镀膜效果，从而根据产品调整加工处理过程，有效提高结合力等各性能。

是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

金是一种黄色金属，具有很高的化学安稳性。金原子有一价和三价两种价态，一价金 的规范电位为+1.68V，三价金的规范电位为+1.50V，对钢、铜、银及其合金而言，金镀层为阴极性保护镀层，因此在一些电镀加工厂中将真空真金电镀加工技能多使用在金属饰品上。工业上常用的镭雕溶液有碱性氰化物镀液和酸性、中性镀液等。比较而言，运用最广泛的仍是氰化物镀液。镭雕溶液的显着特征是容许阴极电流密度较低。在工业化出产中，为了下降零件的造价、节约出产成本，行进真金电镀层的装饰性效果。

的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。