的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

金是一种黄色金属，具有很高的化学安稳性。金原子有一价和三价两种价态，一价金 的规范电位为+1.68V，三价金的规范电位为+1.50V，对钢、铜、银及其合金而言，金镀层为阴极性保护镀层，因此在一些电镀加工厂中将真空真金电镀加工技能多使用在金属饰品上。工业上常用的溶液有碱性氰化物镀液和酸性、中性镀液等。比较而言，运用最广泛的仍是氰化物镀液。溶液的显着特征是容许阴极电流密度较低。在工业化出产中，为了下降零件的造价、节约出产成本，行进真金电镀层的装饰性效果。

涵盖了磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，水电镀等。至于不锈钢配件选用比较多的工艺为磁控溅射镀膜技术，也就是我们平常经常聊到的真空电镀。  作为一种十分有效的电镀工艺，磁控溅射镀膜已经被普遍和成功地应用于不锈钢材质表面处理。真空电镀厂家对于不锈钢配件镀膜也是相当的严格，为了使产品质量更好，在进行表面处理之前，会详细与客户沟通，了解产品的大小尺寸以及镀膜效果，从而根据产品调整加工处理过程，有效提高结合力等各性能。

真空光学镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，真空光学镀膜在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。