PVD镭雕K金色膜层粘附性好，附着牢固等特点，美观新潮收到人们追捧。镭雕使用真金靶材，也就是常说的真金电镀。这种贵金属膜层价格比较昂贵，多应用在首饰，电子数码，钟表手表等行业。PVD真空电镀膜层稳定性高，色泽耀眼均匀的同时，并具有更好的抗腐蚀性能，能够为产品带来了更好的外观效果。电镀工艺分为物理性质和化学性质的电镀工艺，化学电镀会对环境造成一定的污染，甚至会产生对人体的有害物质。而PVD真空电镀加工是物理电镀全程没废弃液排放无污染

厂能够电镀不锈钢首饰产品、不锈钢钟表表带、不锈钢纽扣拉链、不锈钢手机配件、灯具、装饰、手机、DVD、MP3、PDA外壳等等。只要是不锈钢、铜、合金、银材质的小五金配件都行。厂是采用高温炉内真空电镀，能够电镀的产品大小是有限制的，所以也不是任何符合材质要求的物件都能够电镀，更准确来说，只有符合材质要求、大小尺寸等才能进入炉内进行电镀。主要经营范围:UV 真空电镀、离子溅镀、 NCVM （不导电）镀膜、 UV 喷涂、镜片半透明溅镀等。

加工在钛钢饰品使用广泛，经过加工的运用，使物件外表镀制金属膜层，将有机资料和无机资料结合起来，提高了它的物理性能以及改变产品外观。1、简略清洗，不吸尘；2、改进漂亮，外表光滑，金属光泽五颜六色化，装饰性大大行进；3、真空镀膜加工可以减少吸水率，镀膜次数愈多，针孔愈少，吸水率降低，成品不易变形，行进耐热性。4、改进外表硬度，原物件外表比金属软而易受损害，经过真空镀膜加工，硬度及耐磨性大大添加；

技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.工艺流程作：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.真空电镀工艺，根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，真空塑料电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition）和磁控溅射镀膜法（Sputtering）两种工艺。的一般做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．

主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。