技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

厂家对于产品的要求取决于工艺，一般分为磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，磁控溅射镀适用于金属产品，蒸发镀适用于塑胶产品，光学离子镀适用于玻璃产品。真空电镀厂家主要使用的是磁控溅射镀膜，以电镀不锈钢产品配件为主。由于产品电镀需要放进高温炉内，因此对于产品的大小也有所限制，大物件无法电镀，只适合小件电镀。比如首饰、电子配件、数码配件、五金配件等等。不耐高温的材质不能直接电镀，需要进行镀铬或镍作为电镀底层。

PVD真空挂镀是通过靶材的分子分离附着在产品表面，形成产品薄膜。在真空离子镀膜过程中需要把产品一件件挂在设定好的挂具上进入炉内电镀加工，在这个过程中需要认真严谨，稍有差错都会影响膜层品质。PVD真空挂镀要用导电的线环绕物件一端，使需要进行真空离子镀膜加工的物件挂在挂具上，线的粗细和铜线环绕需要专业人士来进行，挂得不好容易有挂具影子出现在膜层上面。所以为了让产品避免这类的问题发生，装饰镀膜层在电镀前都会根据产品进行挂具调整以及二次检查。