加工中的涂料，涂料的效果，真空镀膜加工涂料是真空镀膜技能不可或缺的主要资料之一。它既能够做底漆，又能够做面漆。作为底漆，它能够进步光亮度和镜面反射效果，起到进步铝膜和底材的附着力以及封闭底材等效果。作为面漆，它能够进步真空镀膜加工中镀膜层的耐磨性、耐腐蚀性和耐候性等，还能够使镀膜层上色，使镀件反射出五颜六色的金属光泽。能够说，没有真空镀膜涂料，真空镀膜技能就不也许得到开展。

技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

真空光学镀膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般真空光学镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

生活中应用加工的范围越来越广泛，既能在各种金属材料表面镀覆所需的金属层，也能通过一些特殊处理，使金属沉积于非金属材料的表面上。一般都是镀膜加工的零件为阴极，让它与直流电源的负极相连，然后将金属阳极与直流电源的正极相连。然后需要将阴极与阳极都浸入镀液中，镀液中含有被镀金属的盐类，并添加一些其他物质。一旦直流电源与镀槽相接通，那么在加工过程的电流会通过镀液，然后调节镀膜变阻器的阻值，控制镀液到适当的温度，真空镀膜加工就会正常进行。

适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.工艺流程作：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.真空电镀工艺，根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，真空塑料电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition）和磁控溅射镀膜法（Sputtering）两种工艺。的一般做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．

改善对策：㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。㈡ 加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，的真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）