厂家对于产品的要求取决于工艺，一般分为磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，磁控溅射镀适用于金属产品，蒸发镀适用于塑胶产品，光学离子镀适用于玻璃产品。真空电镀厂家主要使用的是磁控溅射镀膜，以电镀不锈钢产品配件为主。由于产品电镀需要放进高温炉内，因此对于产品的大小也有所限制，大物件无法电镀，只适合小件电镀。比如首饰、电子配件、数码配件、五金配件等等。不耐高温的材质不能直接电镀，需要进行镀铬或镍作为电镀底层。

镀膜加工技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，镀膜加工在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的产品.工艺流程作：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.真空电镀工艺，根据真空电镀气相金属产生和沉积的方式，真空塑料电镀的方法主要分为热蒸发镀膜法（Thermal Evaporation Deposition）和磁控溅射镀膜法（Sputtering）两种工艺。的一般做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．

PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。