加工是物件外表优化处理的一项新发展。镀制的方法也有很多种，当高温蒸腾源通电加热后，促进待镀材料—蒸腾料熔化蒸腾。而蒸腾发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，然后附着于工件外表上堆积成膜。 接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，物料进入辉光放电区并被电离。加工中带正电荷的蒸发料离子，阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时，也会逐步堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

生活中应用加工的范围越来越广泛，既能在各种金属材料表面镀覆所需的金属层，也能通过一些特殊处理，使金属沉积于非金属材料的表面上。一般都是镀膜加工的零件为阴极，让它与直流电源的负极相连，然后将金属阳极与直流电源的正极相连。然后需要将阴极与阳极都浸入镀液中，镀液中含有被镀金属的盐类，并添加一些其他物质。一旦直流电源与镀槽相接通，那么在加工过程的电流会通过镀液，然后调节镀膜变阻器的阻值，控制镀液到适当的温度，真空镀膜加工就会正常进行。

真空离子镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。真空离子镀膜技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

改善对策：㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。㈡ 加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，的真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）