磁控镀膜加工技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。磁控镀膜加工生产线适用于贵金属电镀，如镀镍、镀银、镀金等，包含整套技术的电镀槽、水槽以及生产线周边的电镀设备（包含整流电源、高精度耐酸碱电镀过滤机、地道烘干炉、燃油加热炉、工业纯水机、冷冻机以及废气处理抽风系统）。而手动真空镀膜加工生产线设计规划灵敏，占地面积较小，可一起具有2至3个技术流程，能满意多种零件的电镀技术。

五金配件质量提升，少不了进行五金工序，常见选用的工艺包括真空磁控溅射镀膜，蒸发镀以及光学离子镀。根据产品不同，厂家会有不同的工艺选择。五金的每种工艺都有优缺陷，由于设备结构的复杂，溅射靶材要是不小心穿透了，整块靶材直接报废，因此这个是它的缺点，靶材利用率低下值得注意。对于五金真空电镀的原理，在电场作用下，电子与氩原子产生碰撞，然后电力出很多氩离子和电子，氩离子加速轰击靶材，靶原子沉积基片外表而成膜。

 PVD的耐腐蚀功能触及到加工厂家工序中的工步、硅油通入管路的时刻、管路以及镀膜时运用的电功率、油量时间设置。一、PVD真空电镀的镀膜工步未发动，就会形成电镀产品外表没有保护膜，然后影响膜层的耐腐蚀性；二、硅油通入的管路替换不及时，外表针孔被杂质堵塞，会使硅油实践通入量与规划的数值不符合；在产品电镀之前进行打底，可以有效防止氧化的呈现，同时需定时替换电镀打磨机，针对不同的产品选用不同的工艺，合理规划镀膜过程中的数值等。

技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法。

改善对策：㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。㈡ 加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，的真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）