改善对策：㈠ 加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。㈡ 加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。所以，的真空室的洁净度要提高。否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）

随着全球制造业的快速发展，镭雕技术应用越来越广泛，对于设备、技术、材料的需求也在不断增加。装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜，镭雕的高性价比以及传统电镀对环境的污染迫使真空镀膜成为了主流，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备不断增加。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。这种贵金属镀层虽然价格稍贵，但因其镀层稳定性高，色泽均匀，抗腐蚀性强，膜层与产品结合力牢固，环保不伤肤。

加工是物件外表优化处理的一项新发展。镀制的方法也有很多种，当高温蒸腾源通电加热后，促进待镀材料—蒸腾料熔化蒸腾。而蒸腾发料粒子获得一定动能，真空电镀则沿着视线方向徐徐上升，然后附着于工件外表上堆积成膜。 接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，物料进入辉光放电区并被电离。加工中带正电荷的蒸发料离子，阴极吸引下，随同氩离子一同冲向工件，镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时，也会逐步堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

加工可以应用的地方有很多，包括航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等范畴都有广泛应用，炉内与炉外电镀不太一样。对于不锈钢、铜、铁、锌合金等，适用不同工艺，原料和大小都有要求，PVD加工属于炉内电镀，只要是不锈钢的小件产品都能电镀，但不锈钢材质以外的产品则需要炉外电镀加工。PVD镀膜加工常常使用在首饰、眼镜架、数码配件、电子配件、链子、门牌上，严格控制电镀时间以及质量，膜层硬度高，可以延长产品保色时间长，欢迎咨询。

PVD真空挂镀是通过靶材的分子分离附着在产品表面，形成产品薄膜。在过程中需要把产品一件件挂在设定好的挂具上进入炉内电镀加工，在这个过程中需要认真严谨，稍有差错都会影响膜层品质。PVD真空挂镀要用导电的线环绕物件一端，使需要进行加工的物件挂在挂具上，线的粗细和铜线环绕需要专业人士来进行，挂得不好容易有挂具影子出现在膜层上面。所以为了让产品避免这类的问题发生，装饰镀膜层在电镀前都会根据产品进行挂具调整以及二次检查。