关于不锈钢真空光学镀膜首要包括：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。通常在一些五金电镀加工厂里它们都是选用在真空条件下，经过蒸馏或溅射等方法在塑件表面堆积各种金属和非金属薄膜，经过这么的方法能够得到十分薄的表面镀层。用在不锈钢真空光学镀膜方面的是：真空离子镀，又称真空镀膜.真空电镀的做法现在是一种对比盛行的做法，不锈钢真空电镀具有速度快附着力强的性能，可是报价也较高，能够进行操作的金属类型较少。

属于真空电镀里面的磁控溅射镀工艺，一般PVD膜层都是可以直接镀制在不锈钢或者硬质的合金上面，而对于一些锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，再进行PVD镀膜。的原理主要在真空条件下，利用气体放电使靶材蒸发并将蒸发物质或其反应产污沉积在工件上面，所采用的为真金靶材，因此镀制的膜层为k金膜层。这种工艺要求镀制材料为不锈钢。通过PVD真金镀膜，可使电镀产品相对于普通膜层保色更持久，能保持1-3年不褪色。

主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为。真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。