PVD这种新技能具有耐高温，耐腐蚀，防腐蚀，耐磨损等一系列的特性，而成为现在加工行业界的新宠，适应与不锈钢物件产品膜层电镀。真空电镀PVD又称为真空电镀加工，以前的传统水电镀只可以加工ABS料、ABS+PC料物件，而pvd则能够在这基础上多一项PC料的加工。pvd电镀受制于杂乱的流程，环境与设备，各种要求都相对较高，适用于不锈钢首饰电镀、不锈钢电子配件电镀等，铁、塑料、银这些原料产品需要其他镀膜工艺来完成。

生活中应用加工的范围越来越广泛，既能在各种金属材料表面镀覆所需的金属层，也能通过一些特殊处理，使金属沉积于非金属材料的表面上。一般都是镀膜加工的零件为阴极，让它与直流电源的负极相连，然后将金属阳极与直流电源的正极相连。然后需要将阴极与阳极都浸入镀液中，镀液中含有被镀金属的盐类，并添加一些其他物质。一旦直流电源与镀槽相接通，那么在加工过程的电流会通过镀液，然后调节镀膜变阻器的阻值，控制镀液到适当的温度，真空镀膜加工就会正常进行。

 PVDK金色膜层粘附性好，附着牢固等特点，美观新潮收到人们追捧。使用真金靶材，也就是常说的真金电镀。这种贵金属膜层价格比较昂贵，多应用在首饰，电子数码，钟表手表等行业。PVD真空电镀膜层稳定性高，色泽耀眼均匀的同时，并具有更好的抗腐蚀性能，能够为产品带来了更好的外观效果。电镀工艺分为物理性质和化学性质的电镀工艺，化学电镀会对环境造成一定的污染，甚至会产生对人体的有害物质。而PVD真空电镀加工是物理电镀全程没废弃液排放无污染

主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

真空镀膜涵盖了磁控溅射镀、蒸发镀、光学离子镀，水电镀等。至于不锈钢配件真空镀膜选用比较多的工艺为磁控溅射镀膜技术，也就是我们平常经常聊到的真空电镀。  作为一种十分有效的电镀工艺，磁控溅射镀膜已经被普遍和成功地应用于不锈钢材质表面处理。真空电镀厂家对于不锈钢配件镀膜也是相当的严格，为了使产品质量更好，在进行表面处理之前，会详细与客户沟通，了解产品的大小尺寸以及镀膜效果，从而根据产品调整加工处理过程，有效提高结合力等各性能。