镭雕技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。镭雕技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

蒸镀法是在高度不锈钢条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在不锈钢外表构成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。加热金属的方法：有运用电阻发生的热能，也有运用电子束的。在对钛钢制品施行蒸镀时，为了金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，有必要对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，选用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或提高，金属蒸汽遇到冷的塑料制品外表凝集成金属薄膜。 

 PVDK金色膜层粘附性好，附着牢固等特点，美观新潮收到人们追捧。使用真金靶材，也就是常说的真金电镀。这种贵金属膜层价格比较昂贵，多应用在首饰，电子数码，钟表手表等行业。PVD真空电镀膜层稳定性高，色泽耀眼均匀的同时，并具有更好的抗腐蚀性能，能够为产品带来了更好的外观效果。电镀工艺分为物理性质和化学性质的电镀工艺，化学电镀会对环境造成一定的污染，甚至会产生对人体的有害物质。而PVD真空电镀加工是物理电镀全程没废弃液排放无污染

技能是一种新颖的资料构成与加工的新技能，是外表工程技能领域的首要构成有些。而其间的溅镀，也是我们一般所听到的磁控溅射技能，具有与基材的结合力强-附着力比蒸发镀高过10倍以上，真空磁控溅射镀膜曾细密，均匀等利益.真空磁控溅射镀膜需要使金属或金属氧化物蒸发汽化，而加热的温度不能太高，薄膜构成前期成核密度高，可出产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长，可长时间自动化连续出产。

在饰品表面形成薄薄的微量含金膜层，从而有效地改变饰品纹理，色彩，质感等，从而达到美化饰品的效果，这种技术叫做PVD加工。加工分为多种，主要有：磁控溅射镀（主要金属产品），蒸发镀（主要塑胶产品），光学离子镀（主要璃玻产品）。对于追求质量以及膜层保色时间的商家，可以尝试一下运用这种工艺到产品中去，我们接触了很多电镀的商家，产品可以适用在不锈钢首饰钟表、手机壳、手机摄像头、皮带扣、钥匙扣、U盘（电子数码）、箱包拉链配件上面。