半透膜主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般半透膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面。

正式颁布实施的《电镀污染物排放标准》(以下称新标准)对电镀企业生产提出了更严苛的环保要求。加工过程中大量强酸、强碱、重金属溶液，混杂铬酐、镉、氰化物等有毒有害化学品，在加工生产中排放废水、废气和废渣。在行业发展过程中，有很多小型的传统电镀行业五金电镀加工生产过程中由于这些企业多采取手工结合操作，自动化程度不高，不适合连续作业，对后续的废料处理也不到位，导致了产生很多对环境有害的废水废料。

技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。技术主要有真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。除化学气相沉积法外

 PVD的耐腐蚀功能触及到加工厂家工序中的工步、硅油通入管路的时刻、管路以及镀膜时运用的电功率、油量时间设置。一、PVD真空电镀的镀膜工步未发动，就会形成电镀产品外表没有保护膜，然后影响膜层的耐腐蚀性；二、硅油通入的管路替换不及时，外表针孔被杂质堵塞，会使硅油实践通入量与规划的数值不符合；在产品电镀之前进行打底，可以有效防止氧化的呈现，同时需定时替换电镀打磨机，针对不同的产品选用不同的工艺，合理规划镀膜过程中的数值等。

现在，在一些好的电镀加工厂家中，的做法现在是一种对比流行的做法，做出来的商品金属感强，亮度高.而相对其他的电镀生产线的镀膜法来说，本钱较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛选用.商品表面清洗--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装.通常的做法是在资料上先喷一层底漆，再做电镀.因为资料是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分.